KAIJO楷捷 半導體行業用超聲波清洗機PHENIX Ⅲ

KAIJO楷捷 半導體行業用超聲波清洗機PHENIX Ⅲ

特點：

在適合清洗環境的條件下，可自動匹配發生器和振子

外部控制可切換10檔功率

Dynamic發振模式:NML,AFS,TIMPHENIXI發振模式:NML,AFS,FFS,TIM

發生器對應右表中5種電源

38KHz的振子是使用40KHz的換能器

超聲波清洗主要原理:

1.空化作用

2.加速度

3.物理化學的反應促進作用

超聲波清洗應用領域:半導體晶圓、硅晶片、復合晶片、太陽能電池、 HDD (媒體、基板和組件)、磁頭、平板顯示、玻璃、藍寶石、水晶印刷電路板、膜、陶瓷、 橡膠、樹脂模塑制品、汽車、電子、醫療、加工、精密零件、沖壓零件、模具、 金屬零件

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新能源動力電池： 日本旭精工、熊谷理機