KAIJO楷捷 超聲波清洗機 半導體晶圓清洗6879BK

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超聲波清洗主要原理:

1.空化作用

2.加速度

3.物理化學的反應促進作用

超聲波清洗應用領域:半導體晶圓、硅晶片、復合晶片、太陽能電池、 HDD (媒體、基板和組件)、磁頭、平板顯示、玻璃、藍寶石、水晶印刷電路板、膜、陶瓷、 橡膠、樹脂模塑制品、汽車、電子、醫療、加工、精密零件、沖壓零件、模具、 金屬零件

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